CF系プラズマによるSiO2エッチング

計算条件

CF系プラズマによるSiO2エッチング
  • 反応式は、錯体、ポリマー生成、イオンアシストエッチングなどを含む34反応式を考慮
  • SiO2CxFyがエッチングのプリカーサ

計算結果

  • T=120 [s] SiO2層

    T=120 [s] SiO2層

  • T=240 [s] SiO2層

  • ポリマー層(T=120 [s] )

    ポリマー層(T=120 [s] )

  • ポリマー層(T=240 [s] )

    ポリマー層(T=240 [s] )

  • 固体層(T=120 [s] )

    固体層(T=120 [s] )

  • 固体層(T=240 [s] )

    固体層(T=240 [s] )