ボッシュプロセスによるSiエッチング

計算条件

ボッシュプロセスによるSiエッチング エッチング時間(SF6)/デポ時間(C4F8)= 8[s] / 8[s]

計算結果

  • Si層

    Si層

  • ポリマー層

    ポリマー層

  • 固体層

    固体層