ＤＣマグネトロンスパッタ装置内のスパッタ粒子の挙動

計算条件

バッファガスは Ar 1mTorr で一様分布、バッファガスの流れ場は無視
ターゲットは Al とし、ターゲットのある領域から 1eV, 1.0e18 /m3 のフラックスで放出されると仮定（スパッタ粒子の放出の境界条件については、PEGASUS/SPUTSM を用いた解析を行うことにより放出フラックス分布、放出角度分布、放出エネルギー等をより詳細に与えることが可能）