トレンチ形状へのスパッタ粒子のフラックス分布の評価

プレーナ型のマグネトロンスパッタ装置

UMBスパッタリング装置

アンバランストマグネトロンの磁場配置の解析例です。

同軸円筒型のマグネトロンスパッタ装置

マグネトロンスパッタ装置内の解析 一連の流れ

MSSM,PIC-MCCM,SPUTSM,DSMCM を用いたマグネトロンスパッタ装置解析 の一連の流れです。

ＤＣマグネトロンスパッタ装置解析例（１）

PIC-MCCMによる、装置内の電子イオン分布、電位分布などの計算例です。

ＤＣマグネトロンスパッタ装置解析例（２）

マグネトロンスパッタ装置 3次元解析

MSSM3D と PIC-MCCM3D による、3次元解析の例です。

イオン化スパッタリング

スパッタされた粒子自身がイオン化し、それがさらにスパッタリングを行う現象を考慮にいれた計算例です。 PIC-MCCM と DSMCM のカップリングによる計算です。

RFマグネトロンスパッタ装置のプラズマ解析

PIC-MCCM による、RFマグネトロンスパッタ装置内のプラズマの状態の計算例です。

ＤＣマグネトロンスパッタ装置内のスパッタ粒子の挙動

DSMCMによるスパッタ粒子の輸送計算です。 ガス圧を変えたときの膜厚分布の変化の予測を行います。

マグネトロンスパッタ装置内の静磁場解析

永久磁石によって作られた磁場の計算です。

3次元 CCP プラズマ

PIC-MCCM 3D による、容量結合型プラズマの計算例です。

CCP型GEC装置内のプラズマ解析検証計算(1)

PHM による平行平板型の容量結合プラズマの解析例です。 ガス圧を変えた計算結果と、文献の結果を比較しています。

CCP型GEC装置内のプラズマ解析検証計算(2)

PHMとNMEMのカップリングによる解析例です。準安定状態である Ar^4s の密度分布を文献の実験結果と比較しています。

GEC型の装置内のプラズマ分布

PIC-MCCM による解析例です。

PIC-MCCMとDSMCMの カップリング解析例

水素とシランの混合ガスの解析例です。PIC-MCCMとDSMCMをカップリングして計算することで、 電子、イオンとラジカル種の密度分布を同時に求めます。

磁場コイルをもつ装置内の静磁場解析

ICPコイルにより生成された磁場の計算です。

ICP型エッチング装置内のプラズマ解析(SF6ガス)

SF₆ガスの解析例です。 装置内で生成する多種のラジカル分子の密度分布と、 イオン、電子の分布をセルフコンシステント に求めます。PHMとDSMCMのカップリング解析を行いました。

ICP型エッチング装置内のプラズマ解析

塩素ガス(Cl₂)の解析例です。塩素ガスの流れ場と解離した塩素原子 (Cl)、負イオンを含むイオン種、電子の密度分布を同時に計算します。PHMとDSMCMのカップリングによる解析例です。

ICP型CVD装置内のプラズマ解析

アセチレンガスのガス流れとプラズマを同時に解析しました。 PHMとDSMCMのカップリングによる解析例です。

シャワーヘッド型のCVD装置内ガス流れ解析

いくつかのシャワーヘッド型の装置内の、ガス流れシミュレーションです。 装置内のガス圧分布、流速分布などを求め、基盤表面のガス圧分の均一性を評価します。

ICP型CVD装置内のプラズマ解析

アセチレンガスのガス流れとプラズマを同時に解析しました。 PHMとDSMCMのカップリングによる解析例です。

輻射・熱伝導解析を伴う希薄気体解析

HTRM3D （輻射・熱伝導解析）モジュールとRGS3D （希薄気体解析）モジュールを用いた計算例です。

真空蒸着膜厚の実験結果との比較計算

RGS3Dによる膜厚の計算結果と実験結果との比較を行った計算です。

真空蒸着膜厚分布検証計算

RGS3Dによる膜厚面内分布の計算結果と文献との比較を行った検証計算です。

ターボ分子ポンプの多段2次元モデル計算

7段のターボ分子ポンプを2次元でモデル化して圧力分布を計算しました。

ターボ分子ポンプ内の3次元ガス流れ解析

ターボ分子ポンプ内の3次元ガス流れをDSMC法で計算しました。

シャワーヘッド型のCVD装置内ガス流れ解析

いくつかのシャワーヘッド型の装置内の、ガス流れシミュレーションです。 装置内のガス圧分布、流速分布などを求め、基盤表面のガス圧分の均一性を評価します。

混合ガスの流れ場

RGS3D による、3D形状での流れ場の解析例です。

クラウジング係数検証計算

RGS3D による、クラウジング係数 (管の入口に入射した分子が出口を通過する確率) の計算結果と 文献との比較を行った検証計算です。

多層膜PVD

FPSM2Dによる3層の堆積膜形状の計算です。

デポジションとスパッタリング

CF系プラズマによるSiO2エッチング

FPSM2DによるCF系プラズマのSiO₂エッチング形状の計算です。

固体SiO2とポーラスSiO2のエッチング形状の比較

FPSM2DによるCF系プラズマの固体SiO₂エッチング形状とポーラスSiO₂エッチング形状の比較計算です。

ボッシュプロセスによるSiエッチング

FPSM2Dによるボッシュプロセス(SF₆/C₄F₈プラズマ)のSiエッチング形状の計算です。

Ar/Cl2プラズマによるSiエッチング形状およびFPSM2Dとの比較

FPSM3DによるAr/Cl₂プラズマのSiエッチング形状（ホール、矩形穴）の計算結果と、FPSM2Dによる計算結果を比較しました。

プラズマディスプレイパネルの放電シミュレーション

数100ミクロンサイズのセルにおける放電の解析例です。PHMを用いて計算しています。

カットセルを使ったノズル状の流れ場

気体の熱伝導率の評価

DSMCM2D を用いて、気体の熱伝導率の計算を行いました。

3次元のイオンビーム軌道解析

3次元形状の電極配置で、イオンビームの軌道を計算しました。

イオンビームの軌道計算

印加した電極間を通る、イオンビームの軌道を計算します。

ベナール対流

垂直な立て板を横切る流れ

テイラー・クエット流れ

同軸2重円筒の中の流れです。

翼端の流れ場

Orion 大気圏再突入シミュレーション

RGD3D による高マッハ数の流れ場の解析例です。

Ar/Cl2 混合ガス流れ

NMEMによる流れ場の解析例です。

角柱をよぎる流れ

NMEMによる流れ場の解析例です。カルマン渦が再現できます。

簡単な流れ場（鏡面反射境界条件）

簡単な流れ場（乱反射境界条件）

SASAMAL計算例

SASAMALによるスパッタリング率等の計算例です。

SMCSM計算例

SMCSMによるイオンのエネルギー分布の計算例です。